ALEGEREA APARATULUI *)
Măsurarea grosimii peliculei si grosimi ale stratului în structurile de tip film subțire (metale, semiconductori și izolatori, solide și lichide de film).
Măsurarea constantelor optice ale probelor (metale, semiconductori și dielectrice, medii solide și lichide).
Investigarea structurii materialelor (compoziția, neuniformitatea distribuției spațiale, porozitatea, gradul de cristalinitate, etc.).
Analiza stării de suprafață și a structurii straturilor subțiri (prezența straturilor de suprafață, rugozitatea suprafeței la nivelul nanometriei etc.).
APLICAȚII *)
Controlul tehnologic al fabricării de structuri subțiri în diverse industrii, printre care:
Microelectronica - componente si materiale (circuite integrate, diode emițătoare de lumină, display-uri, dispozitive de memorie, dispozitive de comutare moleculare, fotodetectoare, senzori, etc.);
sisteme de telecomunicații;
sisteme de televiziune prin satelit;
putere (elemente ale panourilor solare etc.);
în chimia organică - să studieze proprietățile și structura filmelor cu compuși organici și procese fizico-chimice la interfețele media;
în știința materialelor pentru studiul structurii materialelor;
în biologie și medicină - pentru studierea proceselor de adsorbție a proteinelor, coagularea sângelui; în oftalmologie - pentru a studia retina ochiului;
în studiile de mediu - pentru a controla prezența și grosimea filmelor de ulei pe suprafețele apei etc.
*) Informații detaliate sunt prezentate aici (fișier pdf cu volumul de 414 KB).
DESCRIEREA APARATULUI
Dispozitivul se bazează pe elipometrie. reprezintă o metodă foarte sensibilă și precisă pentru studiul polarizare optică a suprafețelor și interfețelor diverse suporturi (solid, lichid, gazos), bazată pe studiul modificărilor stării de polarizare a luminii asupra reflecției adică după interacțiunea sa cu suprafața de interfață a acestor medii. O descriere a metodei de elipsometrie poate fi găsită aici.
Specificații:
Lungimea de undă
270 ÷ 10 0 0 nm