Surse de ioni
Producem surse de ioni în două configurații - rotunde, tubulare și extinse cu o secțiune liniară mare. Densitatea de curent a curentului ionic este de până la 18 mA / cm a lungimii fantei sau 36 mA / cm din lungimea zonei de lucru a sursei liniare. Intervalul de tensiune de operare este de 1..5 kV. Diferența scăzută a fasciculului face posibilă plasarea sursei departe de țintă și reducerea ratei prafului. Plasma secundară și efectul schimbului de ioni rezonanți de ioni permit dielectrice de prelucrare fără utilizarea compensatoarelor catodice.
Blocuri și echipamente
Blocuri și echipamente ale sistemului de vid - adaptoare de impedanță variabilă, unități de comandă, transformatoare, sisteme de răcire și alimentare cu apă. Toate dispozitivele sunt complet automatizate, având capacitatea de a salva parametrii de testare și de a monitoriza sistemul printr-o rețea locală sau de la distanță prin Internet.
Generatoare de plasmă
Electrodeless de înaltă frecvență descărcare în plasmă inductivă - mediul universal pentru o gamă largă de procese: ion și gravare cu plasmă, materiale de depunere (inclusiv reactive), tratamentul ionic plasmatic al suprafeței (polizare, nitrurare, carbonizare) și multe altele. Dispozitiv tehnologic universal proiectat - RPG-250 pentru a crea un flux omogen de ioni pe o suprafață mare, și RPG-128, permite o concentrație mult mai mare la uniformitatea de plasmă la aceeași putere.
magnetroane
magnetroane noastre permit pulverizarea unei game largi de materiale direct de la țintă: metale, aliaje și dielectrici într-un mod reactiv (SiO2 SI3 N4 TiO2 TiN, OIT, ZnO, Al2 O3 AlN, MgO, TA2 O5 TAN etc .......) Sunt produse magnetroane circulare țintă de 100 mm în diametru și alungit, cu o lungime de 145-1200 mm și o țintă a lățimii țintă de 80-100 mm. Grosimea țintei este de până la 20 mm pe magnetronii extinși și până la 10 mm pe cele rotunde.
Dezvoltat de către clubul de creație JTemplate