Tehnologiile pentru producția de procesoare de 7 nanometri trebuiau colectate literalmente din lume prin fir. IBM a obținut sprijinul acordat de GlobalFoundries, Samsung, STMicroelectronics și un număr de furnizori de echipamente specializate. Pentru prima dată, canalele tranzistorului nu utilizează siliciu pur, ci o combinație de siliciu și germaniu. În plus, pentru prima dată a fost demonstrată tehnologia potențial comercializată pentru producerea de procesoare care utilizează fotolitografie ultralioară (litografie ultravioletă extremă, EUV).
Potrivit reprezentanților IBM, inginerii corporației au reușit să obțină o creștere a densității plasării elementelor în raport cu cel mai avansat proces tehnologic de 10 nm cu aproape 50%. Pasul dintre elementele de pe un astfel de cip este de numai 430 nm. Comparativ cu chips-urile de 10 nanometri, un câștig de 50% este așteptat nu numai în ceea ce privește performanța, ci și consumul de energie. Aceasta înseamnă că chips-urile progresive actuale de 14 nanometri vor apărea alături de cei dinozauri învechiți, lenți și calzi de 7 nanometri.
