Invenția se referă la domeniul produselor cosmetice și se referă la agenții cu activitate antifungică. Lacul de unghii conține triacetat de gliceril ca substanță cu activitate antifungică și un film de formare solubil în apă. Lacul conține în plus 1-hidroxi-2-piridonă cu o anumită formulă. Lacul are o activitate antifungică mare. 8 z.s. f-ly.
Invenția se referă la un agent cosmetic cu activitate antifungică, mai ales la un lac de unghii.
Obiectul invenției este de a extinde arsenalul lacurilor de unghii având activitate antifungică.
Obiectivul este realizat printr-un lac de unghii care conține o substanță cu activitate antifungică și un film insolubil în apă anterior, în același timp, ca substanță cu activitate antimicotică cuprinde gliceriltriacetat.
Propusă de lac de unghii gliceril conținute, în general, într-o cantitate de la 6 în greutate la 80.%, Preferabil 10 la 70% gr., Și mai ales la 15 la 60% gr., Raportat la cantitatea de componente nevolatile, care reprezintă cantitatea de formator de film, disponibil la nevoia de pigmenți, plastifiant și alți aditivi nevolatili.
Propus lac de unghii poate conține, de asemenea, un solvent tolerabili fiziologic, așa cum sunt utilizate în produsele cosmetice convenționale, hidrocarburi, hidrocarburi halogenate, alcooli, eteri, cetone și esteri, în special esteri ai acidului acetic cu alcooli monohidroxilici, cum ar fi acetatul de etil și acetatul de butii, cu opțional în amestec cu hidrocarburi aromatice, cum ar fi toluen și / sau alcooli, cum ar fi etanol sau izopropanol. Combinația de solvent este critica pentru timpul de uscare pentru o capacitate de lac alocate altor proprietăți importante ale filmului de lac sau lac. Sistemul de solvenți, de preferință, constă dintr-un amestec optim de punct de fierbere scăzut (un solvent cu punct de fierbere până la 100 ° C) și mediu și (solvent cu un punct de fierbere până la 200 ° C).
Ca o substanță suplimentară cu activitate antifungică lac propus poate cuprinde 1-hidroxi-2-piridonă cu formula I în care R 1. R2 și R3 sunt identici sau diferiți și sunt hidrogen sau alchil cu 1 -4 atomi de carbon și R4 este o hidrocarbură saturată radical având 6-9 atomi de carbon sau un radical cu formula II în care X este sulf sau oxigen, Y reprezintă hidrogen sau până la doi atomi de halogen cum ar fi clor și / sau brom, Z este o legătură simplă sau radicalii bivalenți o, S, -CR 2 - (R este hidrogen sau alchil cu 1 până la 4 atomi de carbon Eroda) sau alți radicali bivalenți având 2-10 conectat la atomii lanțului de carbon și, dacă este cazul, oxigen și / sau sulf, în cazul în care, în cazul în care reziduurile care conțin doi sau mai mulți atomi de oxigen și / sau atomi de sulf din urmă trebuie să fie separate unul de altul prin cel cel puțin doi atomi de carbon și în care doi atomi de carbon adiacenți pot fi îmbinate între ele printr-o legătură dublă, iar valențele libere ale atomilor de carbon sunt saturate cu grupări alchil hidrogen și / sau cu 1 - 4 atomi de carbon, Ar este un sistem inelar aromatic, sodă rzhaschuyu până la două cicluri care pot fi substituite cu unul până la trei radicali din grupa: fluor, clor, brom, metoxi, alchil cu 1-4 atomi de carbon, trifluormetil și trifluormetoxi.
Termenul "saturat" înseamnă reziduuri care nu conțin legături multiple alifatice, i. E. etilenă sau acetilenă.
În resturile "Z", unitățile de lanț de carbon sunt, de preferință, grupări CH2. Dacă grupările CH2 sunt înlocuite cu grupe alchil având 1 până la 4 atomi de carbon, grupările metil și etil sunt preferate.
Conceptul de „Ar“ este fenil și sisteme fuzionate cum ar fi naftil, tetrahidronaftil și indenil, și un sistem derivat din bifenil, difenilalcani, difenileteri și difenil tio-eteri.
În formula (I), restul hidrocarbonat al R4 este un rest alchil sau ciclohexil care este legat la inelul piridonă printr-o grupare metilen sau etilen sau poate conține o grupare endometil. R4 poate reprezenta, de asemenea, un rest aromatic, care este, de preferință, atașat la inelul de piridonă cu cel puțin un atom de carbon alifatic.
Reprezentanții preferați din clasa compușilor caracterizați prin formula (I) sunt 6- [4- (4-clorfenoxi) -fenoximetil] -1 -hidroxi-4metil-
6- [4- (2,4-diclor-fenoxi) -fenoximetil] -1-hidroxi-4-metil-
6- (bifenilil-4-hidroxi-metil) -1-hidroxi-4-metil-2-
6- (4-benzil-fenoximetil) -1-hidroxi-4-metil-2-piridona,
6- [4- (2,4-diclorobenziloxi) -fenoximetil] -1-hidroxi-4-metil-2-
6- [4- (4-clor-fenoxi) -fenoximetil] -1-hidroxi-3,4-dimetil-
6- [4- (2,4-diclorbenzil) fenoximetil] -1-hidroxi-3,4-dimetil-2-
6- [4- (cinamiloxi) -fenoximetil] -1-hidroxi-4-metil-2-piridonă,
1 -hidroxi-4-metil-6- [4- (4-trifluormetil-fenoxi) -fenoximetil]
1-hidroxi-4-metil-6-ciclohexil-2-piridona,
1-hidroxi-4-metil-6- (2,4,4-trimetilpentil) -2-piridonă,
1 -hidroxi-4-metil-6-n-hexil, -6-izohexil, -6n-heptil sau -6izoheptil-
1-hidroxi-4-metil-6-octil- sau 6-izo-octil-2-
în special
1-hidroxi-4-metil-6-ciclohexilmetil- sau -6-ciclohexiletil-2-piridonă, în care fiecare rest de ciclohexil poate purta un rest metil,
1 -hidroxi-4-metil-6- (2-biciclo [2.2.1] heptil) -2piridonă,
1-hidroxi-3,4-dimetil-6-benzil- sau -6-dimetilbenzil-2-piridonă sau
1-hidroxi-4-metil-6- (fenil-etil) -2-piridonă.
Produsul gata de utilizat de lac de unghii care cuprinde un solvent, un compus cu formula (I), conține, în funcție de cantitatea de componente volatile și nevolatile, în general, într-o cantitate de la 0,5 la 20, de preferință 2 până la 15% gr..
Un compus cu formula (I) este conținut în lacurile de unghii, conform invenției, în general, într-o cantitate de la 2 în greutate la 80.%, Preferabil 10 la 60 gr. % Si mai ales la 20 la 40% gr., Raportat la cantitatea de componente nevolatile este cantitatea de formator de film, și triacetat de gliceril disponibilă dacă este necesar, pigmenți plastifianți și alți aditivi nevolatili. Propus lacul de unghii pot conține în produsele cosmetice dorite aditivi, cum ar fi plastifianți pe bază de ftalat sau camfor, coloranți sau pigmenți, agenți pentru luciu sidefiu, relantizori sedimentare, rășini sulfamidă, silicați, arome, agenți cum ar fi dioctilsulfosuccinat, derivați de lanolină umectare , agent de ecranare lumină, cum ar fi 2-hidroxi-4-metoxibenzofenonă, substanțele active antibacteriene și substanțe cu activitate cheratolitică și / sau keratoplastic ca sulfit de amoniu, esteri și săruri ale acidului tioglicolic, ureea, alantoina, enzime și acid salicilic.
Prepararea vopselei de unghii conform invenției are loc în mod obișnuit prin amestecarea componentelor individuale și, dacă este necesar, prin prelucrarea adecvată a compoziției (în funcție de tipul acesteia).
Invenția este ilustrată prin următoarele exemple.
Exemplul 1
Lacurile de unghii au următoarea compoziție, în greutate%:
Tricacetat de gliceril 6.0
Izopropanol alcool 47,0
Acetat de etil 32,0
Copolimer de metil vinil eter și acid maleic monobutil - 15,0
Exemplul 2
Lacurile de unghii au următoarea compoziție, în greutate%:
Gliceril triacetat 2.5
1-hidroxi-4-metil-6-ciclohexil-2-piridona - 5.0
Alcool izopropilic 46,5
Acetat de etil 36,0
Copolimer de metil vinil eter și acid maleic monobutil - 10,0
Exemplul 3
Lacurile de unghii au următoarea compoziție, în greutate%:
Gliceril triacetat 2.5
1-hidroxi-4-metil-6- (2,4,4-trimetilpentil) -2-piridonă -2,5
Alcool izopropilic 47,5
Acetat de etil 40,0
Copolimerul eterului metil vinilic și esterul maleat de monobutil este de 7,5
Vopseaua de unghii conform exemplelor 1 până la 3 se prepară prin dizolvarea diferitelor componente în solvenți.
Exemplul 4
Testarea activității
Experimentele privind demonstrarea activității antifungice a lacului propus prin penetrarea laterală a triacetatului de gliceril prin materialul keratinos sunt efectuate utilizând compozițiile descrise în exemplele 1-3, după cum urmează:
Din partea de excitat a cornului de vacă, se pregătesc plăci de 0,5 mm grosime, cu dimensiunea de 1,5 x 3 cm, care pentru cinci zile consecutive sunt tratate zilnic pe o jumătate de parte cu compoziții adecvate de substanțe active. Apoi, plăcile sunt fixate într-o cameră umedă pe cilindri metalici, la 0,5 cm deasupra suprafeței de agar de apă, cu laturi puternic tratate spre interior. Toate părțile laterale ale cornului care se întorc cu capul în jos sunt în mod repetat punctate cu o suspensie de microconidie Trichophyton mentagrophytes. Formarea coloniei a fost observată apoi la 28 ° C după 10 zile.
rezultat:
Pre-tratarea de cinci ori puternică a părții excitat cu compozițiile propuse din exemplele 1 până la 3 a împiedicat în totalitate germinarea sporiilor fungice pe toată partea superioară. Punctele de inoculare pe toată partea superioară devin în câteva zile invizibile cu ochiul liber. În consecință, efectul compoziției conform invenției se extinde lateral de pe suprafața tratată prin întreaga suprafață superioară a cornului.
Plăcile de control care nu sunt tratate cu lac conform invenției arată o creștere completă pe suprafața excitată după infecție.
Placa de control este tratat cu lac din exemplul 2, dar fără gliceriltriacetat prezintă nici o creștere direct deasupra laturii tratate cornului, în timp ce cealaltă jumătate a plăcii (nu este tratată cu compoziția) a se produce creșterea fungiilor.
1. Un lac de unghii care conține o substanță cu activitate antifungică și un agent de filmat insolubil în apă, caracterizat prin aceea că conține triacetat de gliceril ca substanță cu activitate antifungică.
2. Vopsea de unghii conform revendicării 1, caracterizată prin aceea că conține triacetat de gliceril într-o cantitate de 6 până la 80% în greutate, în funcție de cantitatea de componente nevolatile.
3. unghii conform revendicării 1 sau 2, caracterizat prin aceea că filmul insolubil în apă fostul deoarece conține un copolimer al metil-vinil-eter și esterul monobutilic al acidului maleic.
4. Lustruit de unghii conform uneia sau mai multora dintre revendicările 1 la 3, caracterizat prin aceea că mai cuprinde 1-hidroxi-2-piridona cu formula I
în care R1, R2 și R3 sunt aceiași sau diferiți și sunt hidrogen sau alchil cu 1 până la 4 atomi de carbon;
R4 este un radical hidrocarbonat saturat având 6 până la 9 atomi de carbon sau un radical cu formula II
unde X este sulf sau oxigen;
Y este hidrogen sau până la doi atomi de halogen, cum ar fi clor și / sau brom;
Z reprezintă o legătură simplă sau radicalii bivalenți de oxigen, sulf, -CR 2 - (R este hidrogen sau alchil cu 1-4 atomi de carbon) sau alți radicali bivalenți având 2-10 atomi de carbon în compușii cu lanț și, opțional, atomi de oxigen și / sau sulf, în care dacă reziduurile care conțin doi sau mai mulți atomi de oxigen și / sau atomi de sulf din urmă trebuie să fie separați unul de altul prin cel puțin doi atomi de carbon și în care doi atomi de carbon adiacenți pot fi îmbinate între ele printr-o legătură dublă și valențele libere carbon sunt saturați în grupări hidrogen și / sau alchil având 1 până la 4 atomi de carbon.
Ar este un sistem inelar aromatic conținând până la două cicluri, care pot fi substituite cu unul până la trei radicali din grupa: fluor, clor, brom, metoxi, alchil cu 1-4 atomi de carbon, trifluormetil și trifluormetoxi.
5. Lustruit de unghii conform revendicării 4, caracterizat prin aceea că conține un compus cu formula I, în care Ar este un sistem biciclic derivat din bifenil, difenilalcan sau difenil eter.
6. Un lac de unghii, caracterizat prin aceea că compusul cu formula I conține la poziția R4 un rest ciclohexil.
7. Un lac de unghii, conform revendicării 4, caracterizat prin aceea că un compus cu formula I conține în poziția R4 octil radical cu formula -CH2-CH (CH3) -CH2-C (CH3) 3. 8. Un lac de unghii, conform revendicării 4, caracterizat prin aceea că acesta conține 6- [4- (4-clorofenoxi) fenoximetil] -1-hidroxi-4-metil-2-piridonă, 1-hidroxi-4-metil-6- ciclohexil-2-piridonă sau 1-hidroxi-4-metil-6- (2,4,4-trimetilpentil) -2-piridonă.
9. Lustruit de unghii conform uneia sau mai multora dintre revendicările 4 la 8, caracterizat prin aceea că conține un compus cu formula I într-o cantitate de 2 până la 80% în greutate, de preferință 10 până la 60% în greutate și în special 20 până la 40% în greutate. %, în funcție de cantitatea de componente nonvolatile.